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PHI 710俄歇电子能谱仪
PHI710主要特点:l SEM分辨率≤ 3 nm, AES分辨率≤ 8 nm在俄歇能谱的采集分析过程中,包括谱图,深度剖析及元素分布像,需要先在SEM图像上定义样品分析区域,必然要求束
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俄歇电子能谱 AES
及组成的分析。其特点在俄歇电子来自浅层表面,仅带出表面的资讯,并且其能谱的能量位置固定,容易分析。项目介绍所用仪器:扫描俄歇电子能谱仪服务价格:1000 元依据标准号:JY/T 013-1996依据
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PHI 4700 AES俄歇分析仪
分析器、10 kV LaB6扫瞄式电子枪、5 kV浮动柱状式Ar离子枪及高精密度自动样品座。针对例行性的俄歇纵深分析、微区域的故障分析,提供了全自动与及高经济效益的解决方法。PHI 4700是建基于
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PHI Quantera II X射线光电子能谱仪
Quantera II 扫描X射线光电子能谱仪(XPS)是Ulvac-Phi公司以在业界获得非常卓越成绩的Quantum 2000和Quantera SXM之上延申后所zui新研发的XPS分析仪器,其
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PHI 5000 Versaprobe IIX 射线光电子能谱仪
产地属性亚洲价格范围150万-200万X 射线光电子能谱(XPS)是材料科学和发展的领域中最广泛使用的表面分析技术。 X 射线光电子能谱(XPS)是材料科学和发展的领域中最广泛使用的表面分析技术
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PHI X-tool 全自动扫描型微区XPS探针
测试位置。4. 详细的条件设定和直观的操作结合材料和目的,可详细设定分析的条件。通过内置元素周期表,可设定各光电子峰和俄歇峰。通过更改通过能、步长、积分时间设定窄谱扫描参数。对每个样品可设置习惯的
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岛津/Kratos X射线光电子能谱仪AXIS SUPRA+
歇电子能谱和扫描俄歇电子显微镜(AES和SAM)等等AXIS SUPRA+高效智能工作流程适合多用户环境高吞吐量、快速队列样品分析模式实现连续分析采用的通用表面分析ESCApe软件系统使用户与谱仪的
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PHI 5000 Versaprobe III 多功能型扫描XPS微探针
改善的俄歇SAM技术提供了更高的灵敏度和更好的信噪比,可同时进行REELS分析。原位低能反光电子能谱 (LEIPS) 可在较低电子能量下(对材料无损伤)测试样品的导带信息。 PHI
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日本电子JED-2300/2300F 能谱仪电镜用能谱仪
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日本电子JED-2300T 能谱仪
过程中,自动采集电镜主机的倍率、加速电压等参数,进行数据管理。 JED-2300T 能谱仪JED-2300T AnalysisStation是以“图像观察和分析”为基本理念的TEM/EDS集成
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